龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
申请/专利权人：华虹半导体(无锡)有限公司
申请日：2024-01-17
公开（公告）日：2024-05-10
公开（公告）号：CN118016498A
主分类号：H01J37/32
分类号：H01J37/32;H01L21/67;B08B9/093
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.05.28#实质审查的生效;2024.05.10#公开
摘要：本发明提供一种反应腔室的清洁方法，包括：步骤1提供一反应腔室，反应腔室包括气体喷嘴、边缘进气通道及摆阀；步骤2通过边缘进气管道通入清洁气体以清理形成于气体喷嘴内的聚合物；步骤3将摆阀处于闭合状态，并在第一腔室压力下利用第一惰性气体对形成于摆阀处的聚合物进行轰击，以将聚合物击散；步骤4将摆阀处于打开状态，并在第二腔室压力下利用第二惰性气体将击散的聚合物带走；步骤5对反应腔室进行抽气以将其内的聚合物抽出；其中，步骤2～步骤5为一个清洁周期，通过执行至少一个清洁周期以对气体喷嘴及摆阀进行清洁。通过本发明解决了现有的反应腔室清洁难度大、易造成产品报废的问题。
主权项：1.一种反应腔室的清洁方法，其特征在于，所述方法包括：步骤1提供一反应腔室，所述反应腔室包括气体喷嘴、边缘进气通道及摆阀，所述气体喷嘴设于所述反应腔室顶部的中心区域，所述边缘进气通道设于所述反应腔室靠近顶部的侧壁，所述摆阀设于所述反应腔室的底部且具有打开状态和闭合状态；步骤2通过所述边缘进气管道通入清洁气体以清理形成于所述气体喷嘴内的聚合物，其中，聚合物包括有机聚合物和无机聚合物；步骤3将所述摆阀处于闭合状态，并在第一腔室压力下利用第一惰性气体对形成于所述摆阀处的聚合物进行轰击，以将所述聚合物击散；步骤4将所述摆阀处于打开状态，并在第二腔室压力下利用第二惰性气体将击散的聚合物带走，其中，所述第二腔室压力小于所述第一腔室压力；步骤5对所述反应腔室进行抽气以将其内的聚合物抽出；其中，步骤2～步骤5为一个清洁周期，通过执行至少一个清洁周期以对所述气体喷嘴及所述摆阀进行清洁。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 华虹半导体(无锡)有限公司 反应腔室的清洁方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号