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摘要：本发明涉及一种掩模缺陷的检测方法，包括：EUV光源向掩模版发射EUV光，并在其上形成光斑；移动掩模版，使得光斑的长度和宽度分别为第一预设值和第二预设值；光斑依次照射在掩模版的所有位置，在照射到每一个位置时，通过SCMOS相机采集该位置的光斑在SCMOS相机的预设区域形成的散射图像信号，作为该位置的散射图像信号；获得各位置的散射图像信号的关联谱；判断每一个位置的散射图像信号的关联值是否满足预设条件，若是，则该位置存在缺陷，否则，该位置不存在缺陷。本发明的掩模缺陷的检测方法，通过掩模版各位置的散射图像信号的关联值获得掩模版的缺陷位置，检测速度快，灵敏度高。
主权项：1.一种掩模缺陷的检测方法，其特征在于，包括以下步骤：S100：通过EUV光源向掩模版发射EUV光，并在掩模版上形成光斑；S200：移动掩模版，使得掩模版上的光斑的长度和宽度分别为第一预设值和第二预设值；S300：移动掩模版，使光斑依次照射在掩模版的所有位置，在照射到掩模版的每一个位置时，记录该位置的位置信息，并通过SCMOS相机采集该位置的光斑在SCMOS相机的预设区域形成的散射图像信号，作为该位置的散射图像信号；S400：根据各位置的散射图像信号以及掩模版的无缺陷位置的光斑在SCMOS相机的预设区域形成的散射图像信号得到各位置的散射图像信号的关联值；各位置的散射图像信号的关联值Cort满足如下关系式： 其中，I1u,v为掩模版的无缺陷位置的散射图像信号，I2u,v,t为掩模版的各位置的散射图像信号，u、v为SCMOS相机的坐标系的坐标，t为采集散射图像信号的时间，用于映射掩模的位置，为在SCMOS相机的预设区域对u、v遍历；S500：判断每一个位置的散射图像信号的关联值是否满足预设条件，若是，则该位置存在缺陷，否则，该位置不存在缺陷。
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百度查询： 中国科学院上海高等研究院 掩模缺陷的检测方法
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