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申请/专利权人：纳狮新材料有限公司杭州分公司;东莞瀚晶纳米材料有限公司

摘要：本发明公开了一种磁控溅射与电子束复合型镀膜装置，属于真空镀膜设备技术领域，包括真空腔体，其内部设有传送组件、蒸发室和镀膜组件；蒸发室设于真空腔体的底部，配置有可转动的靶材基座，用于放置目标靶材；镀膜组件包括磁控溅射机构和电子枪，磁控溅射机构设于真空腔体的中部，用于在柔性基膜的表面形成金属薄膜；电子枪与靶材基座相对设置，用于轰击目标靶材使之挥发并沉积在金属薄膜的表面。本发明结构简单，设备成本低，采用电子束镀膜与磁控溅射技术相配合，提高了柔性基膜的耐温性，降低柔性基膜的应力，并能降低加工工艺中产生的热量，镀膜效率更高，良率更高。

主权项：1.一种磁控溅射与电子束复合型镀膜装置，包括真空腔体（10），其内部设有传送组件、蒸发室（30）和镀膜组件，所述传送组件用于传送柔性基膜（25），其特征在于，所述蒸发室（30）设于所述真空腔体（10）的底部，所述蒸发室（30）配置有可转动的靶材基座（40），所述靶材基座（40）用于放置目标靶材；所述镀膜组件包括磁控溅射机构（11）和电子枪（12），所述磁控溅射机构（11）设于所述真空腔体（10）的中部，用于在所述柔性基膜（25）的表面形成金属薄膜；所述电子枪（12）与所述靶材基座（40）相对设置，用于轰击目标靶材使之挥发并沉积在所述金属薄膜的表面；所述蒸发室（30）配置有坩埚（31），所述坩埚（31）位于所述靶材基座（40）的下方；所述坩埚（31）的侧壁内部配置有冷却管（36）；所述坩埚（31）的内壁配置有竖向设置的第一槽体（32）以及环绕设置的第二槽体（33）；所述坩埚（31）为圆桶型结构；所述坩埚（31）绕竖直方向的轴线转动，所述靶材基座（40）绕水平方向的轴线转动；所述靶材基座（40）的中部配置有转轴（41），用于驱动所述靶材基座（40）转动；所述靶材基座（40）的内部配置有环状的散热腔（43），所述散热腔（43）环绕所述转轴（41）设置；所述散热腔（43）的内部配置有换热件，所述换热件的吸热端用于与所述靶材基座（40）的内壁相贴合，所述换热件的散热端配置有水冷管（46）；换热件包括多个绕转轴（41）圆周阵列分布的吸热片（44），吸热片（44）的吸热端远离转轴（41）并贴合散热腔（43）的内壁设置，吸热片（44）靠近转轴（41）的一端设有多个开槽（45），水冷管（46）呈螺旋状嵌设在开槽（45）内。

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