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【发明授权】一种2D片层状SiOx材料性能调控方法及其应用_哈尔滨工业大学_202210814079.6 

申请/专利权人:哈尔滨工业大学

申请日:2022-07-11

公开(公告)日:2024-05-10

公开(公告)号:CN115241428B

主分类号:H01M4/36

分类号:H01M4/36;H01M4/38;H01M4/48;H01M10/0525;H01M10/42

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.05.10#授权;2022.11.11#实质审查的生效;2022.10.25#公开

摘要:本发明公开了一种2D片层状SiOx材料的性能调控方法,涉及利用羟基的吸附特性,采用佯盐处理法,利用硅氧烯中羟基对阳离子的吸附形成佯盐,然后在惰性气氛中退火,从而达到调控片层状SiOx材料性能的目的。具体操作方法为:首先在浓酸中溶解硅化钙中的钙得到层状硅氧烯材料;将制备的层状硅氧烯材料分散在电解质溶液中,然后抽滤、干燥、高温煅烧,得到性能调控的2D层状SiOx材料。本发明制备工艺简单,流程少,对设备要求不高,易于产业化大量生产,并且得到的2D层状SiOx材料不需包覆可以直接用作锂离子电池负极材料,并能表现出优异的电化学性能。

主权项:1.一种2D片层状SiOx材料性能调控方法,其特征在于,采用佯盐处理法,利用硅氧烯中羟基对阳离子的特性吸附形成佯盐,然后在惰性条件下高温热处理,从而调控片层状SiOx材料性能;所述2D片层状SiOx材料性能调控方法,包括以下步骤:1制备层状硅氧烯材料:将浓酸A和ASi2型含硅化合物依次加入反应容器中,搅拌混合均匀后,加入氯化物溶液B,搅拌反应1~4d,然后超声振荡0.5~5h,用水洗涤3~10次,抽滤,干燥,得到层状硅氧烯材料;2电解质溶液处理硅氧烯材料:将层状硅氧烯材料分散在电解质溶液C中,超声振荡0.1~6h,用水洗涤2~4次,抽滤,干燥,得到形成佯盐的硅氧烯材料;3制备性能调控的2D片层状SiOx材料:将形成佯盐的硅氧烯材料在惰性气体中退火,得到性能调控的的2D片层状SiOx材料。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 哈尔滨工业大学 一种2D片层状SiOx材料性能调控方法及其应用

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