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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日：2020-07-23
公开（公告）日：2024-05-10
公开（公告）号：CN112309817B
主分类号：H01J37/32
分类号：H01J37/32
优先权：["20190801 JP 2019-142193"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.05.10#授权;2021.02.23#实质审查的生效;2021.02.02#公开
摘要：本公开提供一种能够监视使用金属窗的电感耦合型的等离子体处理装置中等离子体的状态的等离子体处理装置和控制方法。基于本公开的一个方式的等离子体处理装置具备：主体容器；一个或多个高频天线，所述一个或多个高频天线用于使所述主体容器的内部的等离子体生成区域产生电感耦合等离子体；多个金属窗，所述多个金属窗配置于所述等离子体生成区域与所述高频天线之间，所述多个金属窗与所述主体容器绝缘，并且所述多个金属窗彼此绝缘；以及等离子体检测部，其与所述多个金属窗的各个金属窗连接，用于检测生成的等离子体的状态。
主权项：1.一种等离子体处理装置，具备：主体容器；一个或多个高频天线，所述一个或多个高频天线用于使所述主体容器的内部的等离子体生成区域产生电感耦合等离子体；多个金属窗，所述多个金属窗配置于所述等离子体生成区域与所述高频天线之间，所述多个金属窗与所述主体容器绝缘，并且所述多个金属窗彼此绝缘；以及等离子体检测部，其与所述多个金属窗的各个金属窗连接，用于检测生成的等离子体的状态，所述等离子体检测部对所述金属窗施加交流电压并测定流向该金属窗的电流，由此检测所述等离子体的状态。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 等离子体处理装置和控制方法
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