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【发明授权】用于制备多孔石墨烯膜的方法、多孔石墨烯膜和电极_王晓京_202110390441.7 

申请/专利权人:王晓京

申请日:2021-04-12

公开(公告)日:2024-05-10

公开(公告)号:CN113096973B

主分类号:H01G11/86

分类号:H01G11/86;H01G11/26

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.05.10#授权;2021.07.27#实质审查的生效;2021.07.09#公开

摘要:本发明涉及用于制备多孔石墨烯膜的方法、多孔石墨烯膜、电极和电容器。本发明既结合了冻干技术来构建多孔连续互连的氧化石墨烯网络,又结合了高压缩技术来增强氧化石墨烯机械结构的强度。本发明中,通过激光和微波照射还原多孔氧化石墨烯膜,从而实现有效的大面积还原,并实现高性能的超级电容器。

主权项:1.一种用于制备多孔石墨烯膜的方法,包括:S1:冷冻干燥氧化石墨烯浆料以形成多孔氧化石墨烯膜,将所述多孔氧化石墨烯膜在1200PSI的外加压力下压缩到氧化石墨烯薄层,以减小孔洞大小增大比表面积;所述多孔氧化石墨烯膜的每一层包括:多层的多孔氧化石墨烯片和位于两个或多个氧化石墨烯片之间的氧官能团;S2:使用激光照射氧化石墨烯薄层实现对氧化石墨烯薄层的预还原,整个氧化石墨烯薄层将被200Wcm2的激光预还原,其中,激光功率:1.6W,激光光斑尺寸:直径100微米;设置的激光相对于氧化石墨烯薄层的移动速度为10毫米秒;所述预还原的条件包括:使用波长为10.6μm的激光来进行光热还原;激光照射的曝光时间控制在1秒内;S3:将预还原的氧化石墨烯薄层转移到石英玻璃容器中,并充入氮气;使用微波照射氧化石墨烯薄层实现对氧化石墨烯薄层的完全还原,得到多孔还原氧化石墨烯膜;依次使用激光和微波照射多孔氧化石墨烯薄层以形成多孔还原氧化石墨烯薄层,包括使用激光或者微波照射除去氧化石墨烯片之间的至少一部分含氧官能团,通过照射所述多孔氧化石墨烯薄层在所述多孔氧化石墨烯薄层中进一步产生孔洞,在照射期间移动所述激光相对于所述多孔氧化石墨烯薄层的位置,其中,所述激光照射由激光二极管来实现,所述微波照射由微波炉来实现。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 王晓京 用于制备多孔石墨烯膜的方法、多孔石墨烯膜和电极

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