申请/专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

申请日：2020-05-14

公开（公告）日：2024-05-10

公开（公告）号：CN113169520B

主分类号：H01S5/183

分类号：H01S5/183;H01S5/187

优先权：["20190516 EP 19174870.6"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.05.10#授权;2021.08.10#实质审查的生效;2021.07.23#公开

摘要：本发明涉及一种制造至少一个辐射发射器的方法，该方法包括以下步骤：在衬底的顶面上沉积蚀刻停止层；在蚀刻停止层上沉积层堆叠，该层堆叠包括第一接触层、第一反射器、有源区、第二反射器和第二接触层；局部去除层堆叠和蚀刻停止层，从而形成至少一个台面，该至少一个台面包括蚀刻停止层的未去除部分和层状柱，该层状柱基于至少一个台面内未去除的层堆叠形成垂直腔面激光器结构；在衬底的顶面上沉积保护材料，从而将整个台面嵌入保护材料中，其中衬底的背面保持不受保护；通过施加至少一种蚀刻剂来去除衬底，该至少一种蚀刻剂能够蚀刻衬底，但不能蚀刻或较少地蚀刻蚀刻停止层和保护材料；以及去除蚀刻停止层，从而暴露层状柱的第一接触层。

主权项：1.一种制造至少一个辐射发射器的方法，包括以下步骤：在衬底的顶面上沉积蚀刻停止层；在所述蚀刻停止层上沉积层堆叠；所述层堆叠包括第一接触层、第一反射器、有源区、第二反射器和第二接触层；局部去除所述层堆叠和所述蚀刻停止层，从而形成至少一个台面，所述至少一个台面包括所述蚀刻停止层的未去除部分和层状柱，所述至少一个层状柱基于至少一个台面内未去除的层堆叠形成垂直腔面激光器结构；在所述衬底的顶面上沉积保护材料，从而将整个台面嵌入所述保护材料中，其中所述衬底的背面保持不受保护；通过施加至少一种蚀刻剂来去除所述衬底，所述至少一种蚀刻剂用于蚀刻所述衬底但不蚀刻所述蚀刻停止层和所述保护材料；以及去除所述蚀刻停止层，从而暴露至少一个层状柱的第一接触层；还包括以下步骤：在所述保护材料的顶部安装载体；提供第二衬底；以及将所述至少一个层状柱的基座安装在已经位于所述第二衬底上的至少一个电接触垫上；其中所述局部去除所述层堆叠和所述蚀刻停止层的步骤还包括从所述衬底的顶面局部去除衬底材料，使得所述至少一个台面还包括所述衬底的未去除表面部分；所述在所述衬底的顶面上沉积保护材料的步骤还包括将所述衬底的未去除表面部分嵌入所述保护材料中；所述将所述基座安装在所述电接触垫上的步骤是在去除所述保护材料之前进行的；通过机械地调节所述载体与所述第二衬底的相对位置，使所述基座与所述电接触垫对齐，然后再将所述基座安装在所述电接触垫上；其中所述保护材料对于可见光是透明的；和所述载体对于可见光是透明的。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 垂直腔面发射激光器

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