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申请/专利权人：深圳市瑞昌星科技有限公司
摘要：本实用新型公开了一种高分子缓冲离型垫的封边结构，包括高分子缓冲离型垫，及设置于封边结构高分子缓冲离型垫两面的第一限位层及第二限位层；封边结构第一限位层及第二限位层，均伸出封边结构高分子缓冲离型垫的各个方向边缘外一定距离；通过向高分子缓冲离型垫来的两面设置第一限位层及第二限位层，并对第一限位层及第二限位层设置不同的材料及固定结构形式，形成可有效封边的加工结构，且对于不同类型的高分子缓冲离型垫，可采用不同类型的封边结构，形成不同厚度不同层数不同材料的封边结构，实现高分子缓冲离型垫的封边的有效加工，增强缓冲离型垫整体的强度和可靠性，防止缓冲离型垫边缘分层、起丝、起毛刺等问题。
主权项：1.一种高分子缓冲离型垫的封边结构，其特征在于：所述封边结构包括高分子缓冲离型垫，及设置于所述高分子缓冲离型垫两面的第一限位层及第二限位层；所述第一限位层及第二限位层，均伸出所述高分子缓冲离型垫的各个方向边缘外一定距离。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 深圳市瑞昌星科技有限公司 一种高分子缓冲离型垫的封边结构
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