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申请/专利权人：三星SDI株式会社
申请日：2023-10-18
公开（公告）日：2024-05-17
公开（公告）号：CN118050954A
主分类号：G03F7/004
分类号：G03F7/004;G03F7/20
优先权：["20221116 KR 10-2022-0153722"]
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.06.04#实质审查的生效;2024.05.17#公开
摘要：公开一种半导体光刻胶组合物，包含由化学式1表示的有机锡化合物和溶剂；以及一种使用其形成图案的方法。
主权项：1.一种半导体光刻胶组合物，包括：由化学式1表示的有机锡化合物；以及溶剂：[化学式1] 其中，在化学式1中，X1到X6各自独立地为O或S，L1到L3各自独立地为单键、经取代或未经取代的二价C1到C20饱和脂肪族烃基、经取代或未经取代的二价C3到C20饱和或不饱和脂环族烃基、具有至少一个双键或三键的经取代或未经取代的二价C2到C20不饱和脂肪族烃基、经取代或未经取代的二价C6到C20芳族烃基、-C＝O-，或其组合，Ra、Rb、Rc、Rd、Re、Rf以及R1到R3各自独立地为氢、卤素、经取代或未经取代的C1到C20烷基、经取代或未经取代的C3到C20环烷基、经取代或未经取代的C2到C20烯基、经取代或未经取代的C3到C20环烯基、经取代或未经取代的C2到C20炔基、经取代或未经取代的C3到C20环炔基、经取代或未经取代的C6到C30芳基，或其组合，以及R4为经取代或未经取代的C1到C20烷基、经取代或未经取代的C3到C20环烷基、经取代或未经取代的C2到C20烯基、经取代或未经取代的C3到C20环烯基、经取代或未经取代的C2到C20炔基、经取代或未经取代的C3到C20环炔基、经取代或未经取代的C6到C30芳基，或其组合。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 三星SDI株式会社 半导体光刻胶组合物和使用组合物形成图案的方法
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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