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申请/专利权人：深圳市万普拉斯科技有限公司
申请日：2022-11-16
公开（公告）日：2024-05-17
公开（公告）号：CN118045748A
主分类号：B05D5/06
分类号：B05D5/06;B05D7/02;B05D3/14;H05K5/02
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.06.04#实质审查的生效;2024.05.17#公开
摘要：本申请提供了一种电子设备、壳体及其制备方法；该壳体的制备方法包括：在基材表面形成第一底漆层；在所述第一底漆层上形成NCVM层；在所述NCVM层上形成面漆层；通过激光镭雕的方式在所述面漆层上形成镂空区，以露出底部的NCVM层。本申请实施例提供的壳体的制备方法，通过激光镭雕的方式在面漆层上形成镂空区，以露出底部的光学效果层，在不拆件的基础上可以在壳体的外观面做出装饰图案的外观效果，可以提升产品外观表现力和竞争力。
主权项：1.一种壳体的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：在基材表面形成第一底漆层；在所述第一底漆层上形成NCVM层；在所述NCVM层上形成面漆层；通过激光镭雕的方式在所述面漆层上形成镂空区，以露出底部的NCVM层。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 深圳市万普拉斯科技有限公司 电子设备、壳体及其制备方法
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