申请/专利权人:英飞凌科技奥地利有限公司
申请日:2023-11-17
公开(公告)日:2024-05-17
公开(公告)号:CN118053900A
主分类号:H01L29/778
分类号:H01L29/778;H01L29/06;H01L27/07;H01L23/544
优先权:["20221117 EP 22208134.1"]
专利状态码:在审-公开
法律状态:2024.05.17#公开
摘要:公开了III族氮化物晶体管器件。在实施例中,一种III族氮化物晶体管器件,包括III族氮化物基半导体本体,所述III族氮化物基半导体本体包括被布置在III族氮化物沟道层上的III族氮化物势垒层,并且在其间形成能够支持二维电荷气的异质结。开关III族氮化物晶体管器件和电流感测III族氮化物晶体管器件被形成在III族氮化物基半导体本体中。电流感测III族氮化物基晶体管器件被通过二维电荷气的局部中断与开关III族氮化物晶体管器件电绝缘。
主权项:1.一种III族氮化物晶体管器件,包括:III族氮化物基半导体本体,包括被布置在III族氮化物沟道层上的III族氮化物势垒层,并且在其之间形成能够支持二维电荷气的异质结;开关III族氮化物晶体管器件和电流感测III族氮化物晶体管器件,其被形成在III族氮化物基半导体本体中;其中电流感测III族氮化物基晶体管器件被通过二维电荷气的局部中断与开关III族氮化物晶体管器件电绝缘。
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权利要求:
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