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申请/专利权人：北京航空航天大学宁波创新研究院
申请日：2024-04-16
公开（公告）日：2024-05-17
公开（公告）号：CN118048608A
主分类号：C23C14/06
分类号：C23C14/06;C22C1/03;C22C30/00;C23C14/35;C23C14/54;C23C14/02;B82Y30/00
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.06.04#实质审查的生效;2024.05.17#公开
摘要：本申请涉及氮化物薄膜技术领域，具体涉及一种TiAlNbTaV高熵合金氮化物薄膜及其制备方法和应用。其中，该TiAlNbTaV高熵合金氮化物薄膜的成分表达式为：TiaAlbNbcTadVeNx，其中a=6‑12、b=6‑12、c=8‑15、d=8‑15、e=8‑15、x=30‑60，a+b+c+d+e+x=100；该薄膜的晶粒结构为柱状纳米晶结构，晶粒大小为10‑70nm；本发明通过在磁控溅射过程中通入氮气来制备TiaAlbNbcTadVeNx高熵合金氮化物薄膜，其晶粒形态由针叶状到颗粒状的转变，晶粒取向主要为111、200、220。根据X射线衍射的消光定律表明薄膜的晶体结构为面心立方FCC结构。随着N2在总气体（包含Ar和N2）中占比的增加，取向也发生转变，从220转变为200再转变为111。该TiAlNbTaV高熵合金氮化物薄膜表征出高耐磨性、高耐蚀性以及高力学性能，其纳米硬度值最高达到了30.37±2.31GPa，模量值达到331.48±19.30GPa。
主权项：1.一种TiAlNbTaV高熵合金氮化物薄膜，其特征在于，该薄膜的成分表达式为：TiaAlbNbcTadVeNx，其中，a=6-12、b=6-12、c=8-15、d=8-15、e=8-15、x=30-60，a+b+c+d+e+x=100；该薄膜的晶粒结构为柱状纳米晶结构，晶粒大小为10-70nm；该薄膜的纳米硬度为7.15-30.37GPa，模量值为205.3-331.48GPa。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京航空航天大学宁波创新研究院 一种TiAlNbTaV高熵合金氮化物薄膜及其制备方法和应用
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