申请/专利权人:上海频准激光科技有限公司
申请日:2024-04-16
公开(公告)日:2024-05-17
公开(公告)号:CN118050839A
主分类号:G02B5/18
分类号:G02B5/18;G02B27/00
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.06.04#实质审查的生效;2024.05.17#公开
摘要:本发明涉及光学技术领域,尤其涉及一种目标光栅生成方法,包括以下步骤:判断目标光源输出的初始光束集合的总数量,当初始光束集合的总数量等于1时,采用第一方式确定第二干涉区域,当初始光束集合的总数量大于1时,采用第二方式确定第二干涉区域,根据第二干涉区域放置基板,生成第二目标光栅,通过对目标光源输出的初始光束集合的总数量,适应性地采用第一方式或者第二方式确定第二干涉区域,提高了第二干涉区域的获取准确性,进而提高了目标光栅的生成准确性。
主权项:1.一种目标光栅生成方法,其特征在于,所述目标光栅生成方法包括:S001,判断目标光源输出的初始光束集合的总数量;S002,当所述初始光束集合的总数量等于1时,采用第一方式确定第二干涉区域;S003,当所述初始光束集合的总数量大于1时,采用第二方式确定第二干涉区域;S004,根据所述第二干涉区域放置基板,生成第二目标光栅。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 上海频准激光科技有限公司 一种目标光栅生成方法
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