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申请/专利权人：矢崎总业株式会社
申请日：2023-01-11
公开（公告）日：2024-05-17
公开（公告）号：CN118056250A
主分类号：H01B5/14
分类号：H01B5/14;H01B13/00;C01B32/168
优先权：["20220111 JP 2022-002308"]
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.06.04#实质审查的生效;2024.05.17#公开
摘要：提供一种碳纳米管复合电线10，其包括：基板3；碳纳米管1；以及薄金属膜2，其形成在碳纳米管1上，其中碳纳米管1在拉曼光谱中的G带与D带的峰值比GD为5以上且30以下，并且作为碳纳米管1的截面面积与碳纳米管1的截面面积和薄金属膜2的截面面积之和的比率的碳纳米管占有面积率为10％以下。
主权项：1.一种碳纳米管复合电线，包括：基板；碳纳米管；以及薄金属膜，该薄金属膜形成在所述碳纳米管上，其中，所述碳纳米管在拉曼光谱中的G带与D带的峰值比GD为5以上且30以下，并且作为所述碳纳米管的截面面积与所述碳纳米管的截面面积和所述薄金属膜的截面面积之和的比率的碳纳米管占有面积率为10％以下。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 矢崎总业株式会社 碳纳米管复合电线及其制造方法
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