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【发明公布】一种Sn-Ag-Cu钎料凸点互连芯片及其制备方法和应用_珠海天成先进半导体科技有限公司_202311634943.5 

申请/专利权人:珠海天成先进半导体科技有限公司

申请日:2023-11-30

公开(公告)日:2024-05-17

公开(公告)号:CN118046055A

主分类号:B23K1/00

分类号:B23K1/00;B23K1/20

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.06.04#实质审查的生效;2024.05.17#公开

摘要:本发明提供一种Sn‑Ag‑Cu钎料凸点互连芯片及其制备方法和应用,该方法包括在第一键合片的第一铜柱结构上依次沉积纳米孪晶Ni层和择优取向纳米孪晶Cu层;在择优取向纳米孪晶Cu层表面沉积Sn‑Ag钎料凸点;对完成上述步骤的第一键合片进行一次加热回流,形成Sn‑Ag‑Cu钎料凸点结构;将Sn‑Ag‑Cu钎料凸点结构与第二键合片接触设置,并进行二次加热回流,制的所述Sn‑Ag‑Cu钎料凸点互连芯片。该方法工艺简单、成本低廉,有效得到择优取向金属间化合物的Sn‑Ag‑Cu钎料凸点互连芯片,有效提高铜柱凸点互连芯片的可靠性,并与现有半导体及封装工艺兼容性好,工艺简单,成本低,适合大规模生产。

主权项:1.一种Sn-Ag-Cu钎料凸点互连芯片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1:在第一键合片的第一铜柱结构上依次沉积纳米孪晶Ni层和择优取向纳米孪晶Cu层;S2:在所述择优取向纳米孪晶Cu层表面沉积Sn-Ag钎料凸点;S3:对完成步骤S2的第一键合片进行一次加热回流,形成Sn-Ag-Cu钎料凸点结构;S4:将所述Sn-Ag-Cu钎料凸点结构与第二键合片接触设置,并进行二次加热回流,制的所述Sn-Ag-Cu钎料凸点互连芯片。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 珠海天成先进半导体科技有限公司 一种Sn-Ag-Cu钎料凸点互连芯片及其制备方法和应用

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