申请/专利权人:深圳市新凯来工业机器有限公司
申请日:2024-01-03
公开(公告)日:2024-05-17
公开(公告)号:CN118053913A
主分类号:H01L29/786
分类号:H01L29/786;H01L21/34
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.06.04#实质审查的生效;2024.05.17#公开
摘要:本申请提供一种薄膜晶体管以及薄膜晶体管的制备方法,涉及半导体技术领域。薄膜晶体管包括设置在基底上的源极、漏极、栅极、沟道层和栅介质层。沿基底的厚度方向,源极和漏极位于栅介质层的一侧,栅极位于栅介质层的另一侧,并且栅介质层位于沟道层和栅极之间。其中,沟道层的至少部分位于源极和漏极之间,沟道层与源极和漏极相连。沟道层为金属氧化物掺杂氟离子或等离子体形成具有降低O空位缺陷、降低陷阱态的阻氢膜层。本申请的薄膜晶体管可以解决器件中缺陷、氢扩散等影响薄膜晶体管的偏压稳定性的问题。
主权项:1.一种薄膜晶体管,其特征在于,包括设置在基底上的源极、漏极、栅极、沟道层和栅介质层;沿所述基底的厚度方向,所述源极和所述漏极位于所述栅介质层的一侧,所述栅极位于所述栅介质层的另一侧,并且所述栅介质层位于所述沟道层和所述栅极之间,其中,所述沟道层的至少部分位于所述源极和所述漏极之间,所述沟道层与所述源极和所述漏极相连;所述沟道层为金属氧化物掺杂氟离子或等离子体形成具有降低O空位缺陷、降低陷阱态的阻氢膜层。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 深圳市新凯来工业机器有限公司 薄膜晶体管以及薄膜晶体管的制备方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。