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申请/专利权人：北京航空航天大学宁波创新研究院
申请日：2024-04-16
公开（公告）日：2024-05-17
公开（公告）号：CN118048570A
主分类号：C22C30/00
分类号：C22C30/00;C22C1/03;C23C14/14;C23C14/34;C23C14/35
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.06.04#实质审查的生效;2024.05.17#公开
摘要：本申请涉及高熵合金技术领域，特别是涉及一种TiAlNbTaV高熵合金靶材及其制备方法和应用。该TiAlNbTaV高熵合金靶材含有Ti、Al、Nb、Ta、V五种元素，各组成元素的原子比为Ti：Al：Nb：Ta：V=a：b：c：d：e，其中a=10‑30、b=15‑75、c=5‑30、d=5‑30、e=5‑30，a+b+c+d+e=100，且a+b:c+d+e=35‑85:15‑65。该靶材通过对成分和靶材元素熔炼顺序进行设计保证整体靶材的晶体结构中含有15%‑100%的面心立方FCC结构，且靶材的成分均匀、致密度好；相较于纯BCC结构的靶材，基于本发明的含FCC结构TiAlNbTaV靶材制备的高熵合金氮化物薄膜具有更高的沉积效率，相同溅射工艺条件下，薄膜沉积效率最高能提高20%。溅射获得的高熵合金氮化物薄膜表现出优异的强韧性能，硬度值达到29.28±3.22GPa，模量值达到325.47±26.19GPa。
主权项：1.一种TiAlNbTaV高熵合金靶材，其特征在于，该TiAlNbTaV高熵合金靶材含有Ti、Al、Nb、Ta、V五种元素，各组成元素的原子比为Ti：Al：Nb：Ta：V=a：b：c：d：e，其中a=10-30、b=15-75、c=5-30、d=5-30、e=5-30，a+b+c+d+e=100，且a+b:c+d+e=35-85:15-65；该TiAlNbTaV高熵合金靶材在成分范围下晶体结构中包括15%-100%的面心立方FCC结构，其FCC结构的取向晶面为111、200、220。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京航空航天大学宁波创新研究院 一种TiAlNbTaV高熵合金靶材及其制备方法和应用
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