申请/专利权人：日新电机株式会社

申请日：2020-07-08

公开（公告）日：2024-05-17

公开（公告）号：CN112213241B

主分类号：G01N15/04

分类号：G01N15/04;G01N21/01;G01N21/59;G01N21/55;G01N21/47

优先权：["20190712 JP 2019-129711"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.05.17#授权;2021.01.29#实质审查的生效;2021.01.12#公开

摘要：本发明提供一种尘埃堆积探测装置，其不论尘埃的种类如何，均可探测尘埃的堆积。所述尘埃堆积探测装置包括：反射构件120，具有两个反射面，剖面为L字型；发光部102，朝反射构件照射光；光探测部106，探测由反射构件所反射的光；以及评估部控制部108，在从发光部朝反射构件照射了光的状态下，对应于由光探测部所探测的光的强度与发光部的照射光的强度的比率，对反射构件中的尘埃堆积的程度进行评估；发光部配置在比两个反射面中的铅垂面的上端高的位置，发光部及光探测部配置为从发光部照射的光由两个反射面依次反射后，通过光探测部进行探测。由此，不论尘埃的种类如何，均可高精度地探测尘埃。

主权项：1.一种尘埃堆积探测装置，其特征在于，包括：反射构件，具有两个反射面，剖面为L字型；发光部件，朝所述反射构件照射光；光探测部件，探测由所述反射构件所反射的光；评估部件，在从所述发光部件朝所述反射构件照射了光的状态下，对应于由所述光探测部件所探测的光的强度与所述发光部件的照射光的强度的比率，对所述反射构件中的尘埃堆积的程度进行评估；温度探测部件，探测所述发光部件及所述光探测部件的周围的温度；以及校正部件，对由所述光探测部件所探测的光的强度进行校正；所述发光部件配置在比所述两个反射面中的铅垂面的上端高的位置，所述发光部件及所述光探测部件配置为从所述发光部件照射的光由所述两个反射面依次反射后，通过所述光探测部件进行探测，由所述温度探测部件所探测的温度为T，所述校正部件在从所述发光部件朝所述反射构件照射了光的状态下，使用表示由所述光探测部件所探测的光的强度的V（T）、规定温度T1、及常数K，通过V（T1）＝V（T）×（1－（T－T1）K）来算出换算值V（T1），所述常数的值根据所述发光部件的温度特性或所述光探测部件的温度特性而事先决定，所述评估部件对应于所述换算值与所述发光部件的照射光的强度的比率，对所述反射构件中的尘埃堆积的程度进行评估。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 日新电机株式会社 尘埃堆积探测装置

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