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【发明授权】一种改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺_高德(江苏)电子科技股份有限公司_202111258212.6 

申请/专利权人:高德(江苏)电子科技股份有限公司

申请日:2021-10-27

公开(公告)日:2024-05-17

公开(公告)号:CN113891568B

主分类号:H05K3/06

分类号:H05K3/06;H05K3/28;H05K3/42

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.05.17#授权;2024.04.23#著录事项变更;2022.01.21#实质审查的生效;2022.01.04#公开

摘要:本发明提供一种改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺,包括以下步骤:(1)制作印刷线路板内层的线路并压合;(2)钻孔;(3)电镀、制作外层线路、油墨印刷及表面处理;(4)化学清洗,一次压膜,使得印刷线路板上形成一层干膜;(5)一次曝光;(6)一次显影;(7)二次压膜;(8)二次曝光;(9)二次显影,将显影后的印刷线路板进行蚀刻,完成反蚀刻工艺。本发明的改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺,是在一次压膜时先将异形导通孔中间的干膜不曝光,在显影时被显影掉,并且保留异形导通孔四周的位置至少有0.2mm的干膜覆盖导通孔的边沿,保护二次压膜的干膜不被异性导通孔的披峰刺破干膜,提高导通性能。

主权项:1.一种改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺,其特征在于,包括以下步骤:(1)制作印刷线路板内层的线路并压合;(2)在压合的印刷线路板上钻孔,钻出的孔包括异形导通孔;(3)将钻孔后的印刷线路板上电镀、制作外层线路、油墨印刷及表面处理;(4)将经过步骤(3)处理的印刷线路板进行化学清洗,然后进行一次压膜,使得印刷线路板上形成一层干膜;(5)将一次压膜后的印刷线路板进行一次曝光;(6)将一次曝光后的印刷线路板进行一次显影,显影后底片透光区的干膜被曝光保留在板面上,底片不透光区的干膜未被曝光在显影时被显影药水溶解掉,保留异形导通孔四周的位置至少有0.2mm的干膜覆盖导通孔的边沿;(7)将一次显影后的印刷线路板进行二次压膜,使得印刷线路板上形成一层干膜;(8)将二次压膜后的印刷线路板进行二次曝光,曝光时设计底片将异形导通孔全部曝光;(9)将二次曝光后的印刷线路板进行二次显影,将二次显影后的印刷线路板进行蚀刻,完成反蚀刻工艺。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 高德(江苏)电子科技股份有限公司 一种改善印刷线路板反蚀刻干膜孔破的加工工艺

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