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申请/专利权人：华芯巨数(杭州)微电子有限公司
申请日：2022-12-16
公开（公告）日：2024-05-17
公开（公告）号：CN115879410B
主分类号：G06F30/398
分类号：G06F30/398;G06F30/392;G06F30/394;G06F16/583;G06F16/51;G06F16/55;G03F1/72;G03F7/20
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.05.17#授权;2023.04.21#实质审查的生效;2023.03.31#公开
摘要：本发明涉及集成电路设计与光刻制造模拟领域，特别涉及一种掩模版图违例自动修复方法、数据库训练方法、系统及计算机设备。本发明提供一种掩模版图违例自动修复方法，包括以下步骤：提供数据库，数据库包括预设违例图形和预设修复命令；获取初始掩模版图中的布线图形，将布线图形与数据库内的预设违例图形进行匹配以获取违例图形；基于预设修复命令对违例图形进行修复并输出最终掩模版图。本发明还提供一种掩模版图违例数据库训练方法、系统及计算机设备。解决了现有设计版图中违例无法自动进行修复的问题。
主权项：1.一种掩模版图违例数据库训练方法，用于掩模版图违例自动修复，其特征在于：包括以下步骤：提供掩模版图作为样本，基于仿真工具对样本中的掩模图形进行成像处理以获得掩模图像；获得掩模图像中的违例图像，并保存违例图像所对应的掩模图形；提供针对违例图像所对应的掩模图形的修复命令，并将违例图像所对应的掩模图形导入布线工具中以生成预设违例图形；将预设违例图形和修复命令导入数据库内以完成对数据库进行训练。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 华芯巨数(杭州)微电子有限公司 一种掩模版图违例自动修复方法、数据库训练方法、系统及计算机设备
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