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申请/专利权人：埃科莱布美国股份有限公司
申请日：2019-03-01
公开（公告）日：2024-05-17
公开（公告）号：CN111758020B
主分类号：G01N21/27
分类号：G01N21/27;G01N21/64;G01N33/18;G01N21/84
优先权：["20180302 US 62/637,550"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.05.17#授权;2021.03.12#实质审查的生效;2020.10.09#公开
摘要：荧光计可用于测量超低浓度的发荧光物质，诸如穿过反渗透膜进入渗透物流的超低浓度的荧光示踪剂。在一些实例中，可以通过基于荧光计测得的荧光反应，重置一些而非所有用于测定所述渗透物中的荧光示踪剂的浓度的校准参数来重新校准所述荧光计。例如，可以为所述荧光计原位重置或重新校准校准曲线的截距，即使所述荧光计尚未进行完全重新校准，也可能提供显著的精度提高。
主权项：1.一种校准用于监测反渗透膜分离过程的荧光计的方法，其包括：将荧光示踪剂引入进料流中以在所述进料流中提供第一浓度的荧光示踪剂；使膜与所述进料流接触，从而产生渗透物流和浓缩物流；用荧光计对从具有第一浓度的荧光示踪剂的进料流产生的渗透物流进行荧光分析，并由此基于所存储的包括截距的校准曲线，确定所述渗透物流中所述荧光示踪剂的第一测量浓度；调整所述进料流中所述荧光示踪剂的浓度，以在所述进料流中提供不同于所述第一浓度的第二浓度的荧光示踪剂；用荧光计对从具有第二浓度的荧光示踪剂的进料流产生的渗透物流进行荧光分析，并由此基于所述校准曲线，确定所述渗透物流中所述荧光示踪剂的第二测量浓度；基于所述第一测量浓度与所述第二测量浓度的比较，确定所述校准曲线的截距偏移；并且根据所述截距偏移确定所述校准曲线调整后的截距。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 埃科莱布美国股份有限公司 超低量程荧光计校准
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