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【发明授权】一种氧化铋基中低熵氧离子导体材料及其制备方法_桂林理工大学_202311127361.8 

申请/专利权人:桂林理工大学

申请日:2023-09-04

公开(公告)日:2024-05-17

公开(公告)号:CN117049871B

主分类号:C04B35/453

分类号:C04B35/453

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.05.17#授权;2023.12.01#实质审查的生效;2023.11.14#公开

摘要:本发明公开了一种氧化铋基中低熵氧离子导体材料及其制备方法。具体材料为Bi2O30.95‑xHo0.4Er0.4Tm0.4Yb0.4Lu0.4O3xWO30.05,x=0.1、0.2、0.3、0.4,制备方法是按照化学式的计量比组成称量配料,使用研钵反复研磨得到混合物;将混合物压片,放入高温烧结马弗炉中,在650°C下烧8小时。再研磨后,在850~1080°C下烧制10小时,得到致密的陶瓷片。本发明制备的氧离子导体材料成本低廉、制备工艺简单,热稳定性和化学稳定性好,电导率高,其中Bi2O30.75Ho0.4Er0.4Tm0.4Yb0.4Lu0.4O30.2WO30.05在550℃时,陶瓷总电导率达1.1×10‑2Scm,700℃时所有比例陶瓷电导率均大于10‑2Scm,能作为电解质材料应用于中低温氧化物燃料电池,具有广泛的应用前景。

主权项:1.一种氧化铋基中低熵氧离子导体材料Bi2O30.95-xHo0.4Er0.4Tm0.4Yb0.4Lu0.4O3xWO30.05,x=0.1、0.2、0.3、0.4陶瓷的制备方法,具体制备步骤为:(1)将纯度为质量百分比99%的Bi2O3、Ho2O3、Er2O3、Tm2O3、Yb2O3、Lu2O3以及WO3原料按照Bi2O30.95-xHo0.4Er0.4Tm0.4Yb0.4Lu0.4O3xWO30.05,x=0.1、0.2、0.3、0.4摩尔比组成称量配料;按制得4g的产物进行准备,将称好的原料放置于研钵中,加适量的无水乙醇,反复研磨一个小时,在红外灯下烘干;(2)将烘干后的粉末分别称取4g用Φ20模具压片,放入高温烧结马弗炉中,在650°C下预烧8小时;再研磨后,称取0.5g用Φ10模具压片,在850~1080°C下烧制10小时,样品以5℃min的速度升温和降温,得到致密的陶瓷片;(3)将步骤(2)制得陶瓷片砸碎,然后通过XRD、SEM-EDS测试得到目标材料,通过EIS测试得出,在700℃所有比例电导率均大于10-2Scm。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 桂林理工大学 一种氧化铋基中低熵氧离子导体材料及其制备方法

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