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申请/专利权人：粤芯半导体技术股份有限公司
申请日：2021-12-30
公开（公告）日：2024-05-17
公开（公告）号：CN114324184B
主分类号：G01N21/21
分类号：G01N21/21;G06F30/20
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.05.17#授权;2023.04.14#著录事项变更;2022.04.29#实质审查的生效;2022.04.12#公开
摘要：本发明提供了一种椭偏仪光谱浮动模型及建立方法，所述方法包括：建立量测程式，对晶圆进行一次量测，并收集所述晶圆膜层的量测光谱数据；使用OLSA软件，对所述量测光谱数据进行拟合；通过编辑所述晶圆对应膜层的射散模型，增加一个谐振子，并将所述谐振子的初始值改为0；在所述量测程式输出项里面选择所述谐振子。本发明通过添加一个谐振子建立椭偏仪光谱浮动模型，与现有技术相比，采用该模型能够获得比较精确的量测结果，从而明确不同晶圆的同一膜层之间的差异、以及同一晶圆内不同位置处的同一膜层之间的差异，从而准确反应出膜层制作过程的均匀性。
主权项：1.一种椭偏仪光谱浮动模型的建立方法，其特征在于，包括：建立量测程式，对晶圆进行一次量测，并收集所述晶圆膜层的量测光谱数据；在对所述晶圆进行量测之前，在所述量测程式中开启收集光谱的功能；在对所述晶圆进行量测之前，确定所述晶圆进行量测的准确位置；所述量测光谱数据包括膜厚和光学常数；使用离线光谱分析软件，对所述量测光谱数据进行拟合；通过编辑所述晶圆对应膜层的射散模型，增加一个谐振子，并将所述谐振子的初始值改为0；所述谐振子为空白自由谐振子；此时所述量测程式中多了一个空白自由谐振子；所述晶圆对应膜层为所述晶圆内需要进行量测的膜层；在所述量测程式输出项里面选择所述谐振子，由此建立的椭偏仪光谱浮动模型增加了一个空白自由谐振子；对一片晶圆上一个或者若干个点进行光谱拟合，分别得到这几个点的光学常数，把这几个点分别记为M1、M2、……；所述椭偏仪光谱浮动模型通过增加一个空白自由谐振子，使得谐振子的浮动范围变为M+k，k为浮动项，能够得到比较精确的量测结果，对量测结果进行分析，可以更明确的得知不同晶圆的同一膜层之间存在的差异，以及同一晶圆内不同位置处的同一膜层之间存在的差异，从而准确反映出膜层制作过程的均匀性。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 粤芯半导体技术股份有限公司 椭偏仪光谱浮动模型及建立方法
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