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申请/专利权人：株式会社斯库林集团
申请日：2020-06-01
公开（公告）日：2024-05-17
公开（公告）号：CN113950382B
主分类号：B08B3/02
分类号：B08B3/02;B08B3/08;B08B7/00;H01L21/02;H01L21/67
优先权：["20190628 JP 2019-122030"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.05.17#授权;2022.02.08#实质审查的生效;2022.01.18#公开
摘要：基板处理方法包括：处理液供给工序，将处理液供给至基板的表面，处理膜形成工序，使所述基板的表面上的所述处理液固化或硬化，形成保持存在于所述基板的表面的除去对象物的处理膜，以及除去工序，通过向所述基板的表面供给除去液，在使所述处理膜保持有所述除去对象物的状态下，将所述处理膜从所述基板的表面除去。所述处理液包含使所述基板的表层以及所述除去对象物中的至少一者作为溶解对象物溶解的溶解成分。所述处理液供给工序包括溶解工序，在该溶解工序中，通过供给至所述基板的表面的所述处理液中的所述溶解成分，使所述溶解对象物局部溶解。
主权项：1.一种基板处理方法，其中，包括：处理液供给工序，将处理液供给至基板的表面，处理膜形成工序，使所述基板的表面上的所述处理液固化或硬化，形成保持存在于所述基板的表面的包含除去对象物的处理膜，以及除去工序，通过向所述基板的表面供给除去液，在使所述处理膜保持有所述除去对象物的状态下将所述处理膜从所述基板的表面除去；所述处理液包含使所述基板的表层以及所述除去对象物中的至少一者作为溶解对象物溶解的溶解成分，所述处理液供给工序包括溶解工序，在该溶解工序中，通过供给至所述基板的表面的所述处理液中的所述溶解成分，使所述溶解对象物局部溶解，所述溶解对象物至少包括所述除去对象物，所述除去对象物包括覆盖所述基板的表面的至少一部分的除去对象膜，在所述溶解工序中，通过所述处理液中的所述溶解成分溶解所述除去对象膜，由此形成所述除去对象膜的膜片，在所述处理膜形成工序中形成的所述处理膜保持所述除去对象膜的膜片。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社斯库林集团 基板处理方法以及基板处理装置
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