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【发明授权】微波源进气装置及半导体工艺设备_北京北方华创微电子装备有限公司_201910434857.7 

申请/专利权人:北京北方华创微电子装备有限公司

申请日:2019-05-23

公开(公告)日:2024-05-17

公开(公告)号:CN111986971B

主分类号:H01J37/32

分类号:H01J37/32

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.05.17#授权;2020.12.11#实质审查的生效;2020.11.24#公开

摘要:本发明提供的微波源进气装置及半导体加工设备,包括管路组件和多个流量控制结构,管路组件包括主路管路和多条支路管路,多条支路管路分别与主路管路连接,多个流量控制结构一一对应的设置在多条支路管路上,用于增大各个支路管路的流阻,以使各个支路管路的流量一致。通过设置多个流量控制结构,同时增大每个支路管路的流阻,以最大程度地降低因支路管路间的差异而造成的流阻不同,从而提高各个支路管路的流量一致性。

主权项:1.一种微波源进气装置,用于向多个微波源输送气体,包括管路组件,所述管路组件包括主路管路和多条支路管路,多条所述支路管路分别与所述主路管路连接,其特征在于,还包括多个流量控制结构,多个所述流量控制结构一一对应的设置在多条所述支路管路上,用于增大各个所述支路管路的流阻,以使各个所述支路管路的流量一致;所述流量控制结构包括用于使流体通过的通孔,多个所述流量控制结构的通孔的孔径相同;所述管路组件还包括设置在所述主路管路上的质量流量控制器,所述通孔的孔径根据所述质量流量控制器的前端压力和后端压力以及所述主路管路上的气体流量进行设定。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 北京北方华创微电子装备有限公司 微波源进气装置及半导体工艺设备

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