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申请/专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日：2020-01-21
公开（公告）日：2024-05-17
公开（公告）号：CN113219783B
主分类号：G03F1/36
分类号：G03F1/36
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.05.17#授权;2021.08.24#实质审查的生效;2021.08.06#公开
摘要：本发明实施例提供了一种光学邻近矫正方法及相关装置、掩模板，方法包括根据主图形的设置和预定的插入规则，插入初始辅助图形，得到初始掩模板图形；查找初始掩模板图形中的问题主图形，并记问题主图形的查找次数加1；确定各个问题主图形的可删除初始辅助图形和替换辅助图形，删除可删除初始辅助图形，插入并冻结替换辅助图形，得到替换掩模板图形，直至查找次数达到预定次数或者在替换掩模板图形中不能找到问题主图形，得到目标掩模板图形，其中，替换辅助图形到问题主图形的投影系数大于或等于投影系数阈值。本发明实施例可以为提高辅助图形设置的合理性，以满足光学邻近矫正的要求。
主权项：1.一种光学邻近矫正方法，其特征在于，包括：获取主图形布局图，插入初始辅助图形，得到初始掩模板图形；查找所述初始掩模板图形中的问题主图形，并记所述问题主图形的查找次数加1，所述问题主图形为关联于同一所述主图形的各个所述初始辅助图形到所述主图形的各个投影系数，均小于投影系数阈值的主图形，所述初始辅助图形到所述主图形的投影系数为：所述初始辅助图形在所述主图形的投影的投影尺寸与所述主图形在所述投影延伸方向的主图形尺寸的比值；确定各个所述问题主图形的可删除初始辅助图形和替换辅助图形，直至所述替换辅助图形的各个关联主图形均为非问题主图形或者完成所述问题主图形的各个初始辅助图形的遍历，删除所述可删除初始辅助图形，插入并冻结所述替换辅助图形，得到替换掩模板图形，直至所述查找次数达到预定次数或者在所述替换掩模板图形中不能找到所述问题主图形，得到目标掩模板图形，其中，所述替换辅助图形到所述问题主图形的投影系数大于或等于所述投影系数阈值。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 光学邻近矫正方法及相关装置、掩模板
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