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申请/专利权人：罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日：2019-07-01
公开（公告）日：2024-05-17
公开（公告）号：CN110658678B
主分类号：G03F7/004
分类号：G03F7/004
优先权：["20180630 US 62/692746"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.05.17#授权;2020.02.04#实质审查的生效;2020.01.07#公开
摘要：光致抗蚀剂面漆组合物包含：基质聚合物和表面活性聚合物，其中所述表面活性聚合物包含具有以下通式I的聚合单元：其中：R1表示氢原子、卤素原子、C1‑C4烷基、或C1‑C4卤代烷基；R2独立地表示氢原子或任选取代的烷基，其中至少一个R2不是氢原子，其中所述R2基团一起任选地形成环状结构，并且其中所述R2基团一起的总碳原子数是从2至20；R3表示任选取代的C1‑C4亚烷基，其中R2基团任选地与R3形成环状结构；并且R4独立地表示C1‑C4氟烷基；其中总的具有通式I的聚合单元以基于所述表面活性聚合物的总聚合单元95wt％或更多的量存在于所述表面活性聚合物中；并且其中所述表面活性聚合物以基于所述组合物的总固体从0.1wt％至30wt％的量存在于所述组合物中；以及包含多种有机溶剂的基于有机溶剂的体系。本发明特别适用于制造半导体装置。
主权项：1.一种光致抗蚀剂面漆组合物，其包含：基质聚合物和表面活性聚合物，其中所述表面活性聚合物包含具有以下通式I的聚合单元： 其中：R1表示氢原子、卤素原子、C1-C4烷基、或C1-C4卤代烷基；R2独立地表示氢原子或任选取代的烷基，其中至少一个R2不是氢原子，其中R2基团之一是氢原子，另外的R2基团是任选取代的支链的C3-C10烷基，其中所述R2基团一起任选地形成环状结构，并且其中所述R2基团一起的总碳原子数是从2至20；R3表示任选取代的C1-C4亚烷基，并且R2基团任选地与R3形成环状结构；并且R4独立地表示C1-C4氟烷基；其中总的具有通式I的聚合单元以基于所述表面活性聚合物的总聚合单元95wt％或更多的量存在于所述表面活性聚合物中；并且其中所述表面活性聚合物以基于所述组合物的总固体从0.1wt％至30wt％的量存在于所述组合物中；以及包含多种有机溶剂的基于有机溶剂的体系，所述表面活性聚合物是均聚物。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 罗门哈斯电子材料有限责任公司 光致抗蚀剂面漆组合物及加工光致抗蚀剂组合物的方法
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