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申请/专利权人：大连创锐光谱科技有限公司
申请日：2023-10-16
公开（公告）日：2024-05-17
公开（公告）号：CN220983649U
主分类号：G02B27/09
分类号：G02B27/09
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.05.17#授权
摘要：本申请公开了一种高斯光束的匀化扩束处理装置，该匀化扩束处理装置包括光分散组件、透射结构体和分束单元，光分散组件包括匀光积分结构体和散光结构体，匀光积分结构体为具有腔体的中空结构体，匀光积分结构体包括沿第一方向相对的进光口和出光口，匀光积分结构体朝向腔体的内表面涂设有满足高朗伯特性的漫反射层，散光结构体在腔体内与进光口相邻设置，透射结构体为设置于出光口的二维结构体，以封闭出光口。本申请能够对高斯光束进行扩束处理以及两级匀化处理，且第二级匀化装置能够为第一级匀化装置提供保障，通过对出光口尺寸的调整，本装置能够提供不同尺寸的均匀光束来满足不同的需求。
主权项：1.一种高斯光束的匀化扩束处理装置，其特征在于，包括：反射匀光组件，所述反射匀光组件包括匀光积分结构体1和散光结构体2，所述匀光积分结构体1为具有腔体的中空结构体，所述匀光积分结构体1包括沿第一方向相对的进光口和出光口，所述匀光积分结构体1朝向所述腔体的内表面涂设有满足高朗伯特性的漫反射层，所述散光结构体2在所述腔体内与所述进光口相邻设置；和透射匀光组件，所述透射匀光组件包括至少一个透射结构体3，所述透射结构体3沿所述第一方向层叠于所述出光口形成的二维结构面；其中，所述散光结构体2径向尺寸沿所述第一方向呈减缩趋势，且具有预设扩束比K，所述出光口的面积D3与所述预设扩束比K具有预设映射关系。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 大连创锐光谱科技有限公司 高斯光束的匀化扩束处理装置
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