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【实用新型】半导体清洗槽及半导体清洗设备_北京北方华创微电子装备有限公司_202322171792.6 

申请/专利权人:北京北方华创微电子装备有限公司

申请日:2023-08-11

公开(公告)日:2024-05-17

公开(公告)号:CN220970269U

主分类号:B08B13/00

分类号:B08B13/00;B08B3/08;H01L21/67

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.05.17#授权

摘要:本实用新型公开了一种半导体清洗槽及半导体清洗设备,清洗槽包括:清洗工艺槽,清洗工艺槽内设有互相隔离的内槽和外槽,清洗工艺槽上设有多个延伸至内槽的药液注液管路,多个药液注液管路用于分别向内槽注入不同的清洗药液;称量机构,设置于清洗工艺槽的底部,称量机构用于测量注入清洗工艺槽内的各清洗药液的重量;药液循环管路,药液循环管路连通内槽和外槽,药液循环管路用于对注入清洗工艺槽内的不同清洗药液进行混合。本实用新型能够实现对工艺药液的精确配比,加强晶圆清洗效果。

主权项:1.一种半导体清洗槽,其特征在于,包括:清洗工艺槽,所述清洗工艺槽内设有互相隔离的内槽和外槽,所述清洗工艺槽上设有多个延伸至所述内槽的药液注液管路,多个所述药液注液管路用于分别向所述内槽注入不同的清洗药液;称量机构,设置于所述清洗工艺槽的底部,所述称量机构用于测量注入所述清洗工艺槽内的各清洗药液的重量;药液循环管路,所述药液循环管路连通所述内槽和所述外槽,所述药液循环管路用于对注入所述清洗工艺槽内的不同清洗药液进行混合。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 北京北方华创微电子装备有限公司 半导体清洗槽及半导体清洗设备

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