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申请/专利权人：三星电子株式会社
申请日：2023-11-07
公开（公告）日：2024-05-14
公开（公告）号：CN118033985A
主分类号：G03F7/20
分类号：G03F7/20;H01L21/68
优先权：["20221114 KR 10-2022-0151854"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.05.14#公开
摘要：在训练用于光学邻近校正的深度学习模型的方法中，可以获得与样本布局相关联的样本输入图像，其中，样本布局是光学邻近校正的目标。可以从通过对样本布局执行光学邻近校正而制作的样本掩模中提取对应于样本输入图像的样本参考图像。可以基于所述样本输入图像以及所述样本参考图像对在光学邻近校正中使用的深度学习模型执行训练操作。样本布局可以包括形成半导体设备的工艺图案的样本布局图案。样本输入图像可以包括样本布局图案的角部分的图像。深度学习模型可以用于对样本布局图案的角部分执行圆角操作。
主权项：1.一种训练在光学邻近校正中使用的深度学习模型以校正在半导体设备制作中使用的布局图案的方法，所述方法包括：获得与样本布局相关联的样本输入图像，其中，所述样本布局是光学邻近校正的目标；从通过对样本布局执行光学邻近校正而制作的样本掩模中提取样本参考图像，所述样本参考图像对应于所述样本输入图像；以及基于所述样本输入图像以及所述样本参考图像对在光学邻近校正中使用的深度学习模型执行训练操作，其中，所述样本布局包括形成半导体设备的工艺图案的样本布局图案，其中，所述样本输入图像包括所述样本布局图案的角部分的图像，并且其中，所述深度学习模型用于对所述样本布局图案的角部分执行圆角操作。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 三星电子株式会社 用于光学邻近校正的方法
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