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【发明公布】半导体器件版图结构_合肥晶合集成电路股份有限公司_202410432173.4 

申请/专利权人:合肥晶合集成电路股份有限公司

申请日:2024-04-11

公开(公告)日:2024-05-14

公开(公告)号:CN118039637A

主分类号:H01L27/02

分类号:H01L27/02

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.05.31#实质审查的生效;2024.05.14#公开

摘要:本发明提供了一种半导体器件版图结构,包括:半导体衬底、第一P型阱区和两个N型阱区,第一P型阱区位于半导体衬底中,两个N型阱区均位于半导体衬底中,两个N型阱区对称设置于第一P型阱区的两侧,且每个N型阱区均包括第一N型子阱区和两个第二N型子阱区,每个N型阱区中的两个第二N型子阱区分别与第一N型子阱区靠近第一P型阱区一侧的两端部连接,且第二N型子阱区与第一P型阱区连接。本发明能够防止半导体器件工作在饱和区时出现基区扩展效应,从而提高半导体器件的稳定性。

主权项:1.一种半导体器件版图结构,其特征在于,包括:半导体衬底;第一P型阱区,位于所述半导体衬底中;两个N型阱区,均位于所述半导体衬底中,两个所述N型阱区对称设置于所述第一P型阱区的两侧,且每个所述N型阱区均包括第一N型子阱区和两个第二N型子阱区,每个所述N型阱区中的两个所述第二N型子阱区分别与所述第一N型子阱区靠近所述第一P型阱区一侧的两端部连接,且每个所述第二N型子阱区均与所述第一P型阱区连接。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 合肥晶合集成电路股份有限公司 半导体器件版图结构

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