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申请/专利权人：电子科技大学;电子科技大学(深圳)高等研究院
申请日：2024-01-10
公开（公告）日：2024-05-14
公开（公告）号：CN118028777A
主分类号：C23C16/455
分类号：C23C16/455
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.05.31#实质审查的生效;2024.05.14#公开
摘要：本发明公开了一种用于CVD设备的气体控位传输设备及方法，设备包括气源、管路、质量流量计、CVD沉积反应室和气体控位输运管道；气源均连接有两个管路，且均通过质量流量计与管路连接，CVD沉积反应室设有进气口和排气口，气体控位输运管道设置在CVD沉积反应室内，且开设有气孔；气源通过其中一个管路汇总后与进气口连接，通过另一个管路汇总后与气体控位输运管道连接，进气口、排气口和气体控位输运管道均设有阀门。使用上述一种用于CVD设备的气体控位传输设备，相比于混合气体直接从进气口进入反应室，气体控位输运管道的气孔能够对指定的位置输入气体，从而达到特定气体的特定浓度的特定位置供给，提高沉积薄膜的沉积质量、气氛分布可控性和丰富性。
主权项：1.一种用于CVD设备的气体控位传输设备，其特征在于：包括气源、管路、质量流量计、CVD沉积反应室和气体控位输运管道；多个所述气源均连接有两个管路，且均通过质量流量计与管路连接，所述CVD沉积反应室设有进气口和排气口，所述气体控位输运管道设置在CVD沉积反应室内，且开设有气孔；多个所述气源通过其中一个管路汇总后与进气口连接，通过另一个管路汇总后与气体控位输运管道连接，所述进气口、排气口和气体控位输运管道均设有阀门。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 电子科技大学;电子科技大学(深圳)高等研究院 一种用于CVD设备的气体控位传输设备及方法
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