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申请/专利权人:三菱电机株式会社;国立大学法人东京工业大学
申请日:2019-04-23
公开(公告)日:2024-06-04
公开(公告)号:CN113748082B
专利技术分类:....使用催化剂[2006.01]
专利摘要:在对反应器2内的催化剂照射等离子体、将所供给的原料气体8和氧化剂气体10改性以制造生成气体14的气体制造系统中,具备使原料气体供给单元9供给至反应器2的原料气体8和氧化气体供给单元11供给至反应器2的氧化气体10的比率变化的气体比率变化单元101和产生照射于催化剂的等离子体的等离子体发生单元,促进在催化剂表面有效率地形成反应性高的化学种的形成,从而提高生成气体14的收率和能量效率。
专利权项:1.一种气体制造方法,是对反应器内的催化剂照射等离子体、将所供给的原料气体和氧化剂气体改性以制造生成气体的气体制造方法,具备:将所述原料气体供给至包含所述催化剂的催化剂层的原料气体供给工序;将所述氧化剂气体供给至所述催化剂层的氧化剂气体供给工序;对所述催化剂层照射所述等离子体的等离子体照射工序;由所述原料气体和所述氧化剂气体制造所述生成气体的改性工序;和使所述原料气体供给工序中的供给至所述催化剂层的所述原料气体的供给量与所述氧化剂气体供给工序中的供给至所述催化剂层的所述氧化剂气体的供给量的比率变化、以形成所述氧化剂气体相对于所述原料气体为丰富的状态来供给所述原料气体和所述氧化剂气体的气体比率变化工序。
百度查询: 三菱电机株式会社 国立大学法人东京工业大学 气体制造系统和气体制造方法
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