恭喜上海微电子装备(集团)股份有限公司程于水获国家专利权
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龙图腾网恭喜上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利调焦调平装置、光刻机系统及离焦量的测量方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114675497B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-20发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011565072.2，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权调焦调平装置、光刻机系统及离焦量的测量方法是由程于水;徐荣伟;庄亚政;孙建超设计研发完成，并于2020-12-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本调焦调平装置、光刻机系统及离焦量的测量方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种调焦调平装置、光刻机系统以及离焦量的测量方法，其中，所述光照单元提供的检测光斑经所述投影单元投影至一待测面上，并经待测面反射形成反射光斑并投射至所述探测单元。所述探测狭缝包括透光区和反射区。反射光斑经透光区形成第一光斑，所述第一探测器获取第一光斑的功率；反射光斑经反射区形成第二光斑，所述第二探测器获取第二光斑的功率。所述数据处理单元根据所述第一光斑的功率和所述第二光斑的功率计算出所述待测面的离焦量。因此，本发明通过设置透光区和反射区，以分别获取第一光斑和第二光斑的功率，进而计算出离焦量，避免摆动扫描反射镜，减少噪声干扰，提高探测信号的信噪比以及离焦量的测量精度。
本发明授权调焦调平装置、光刻机系统及离焦量的测量方法在权利要求书中公布了：1.一种调焦调平装置，其特征在于，所述调焦调平装置包括：光照单元、投影单元、探测单元以及数据处理单元；其中，所述光照单元用于提供检测光斑；所述投影单元用于将所述检测光斑投影至一待测面上，并经所述待测面反射形成反射光斑并投射至所述探测单元；所述探测单元包括探测狭缝、第一探测器和第二探测器；所述探测狭缝包括透光区和反射区；所述反射光斑经所述透光区形成第一光斑，所述第一光斑传输至所述第一探测器；并且，所述反射光斑经所述反射区形成第二光斑，所述第二光斑传输至所述第二探测器；所述第一探测器获取所述第一光斑的功率，所述第二探测器获取所述第二光斑的功率；所述数据处理单元根据所述第一光斑的功率和所述第二光斑的功率得到所述待测面的离焦量。
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