安徽禾臣新材料有限公司李加海获国家专利权
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龙图腾网获悉安徽禾臣新材料有限公司申请的专利一种提高抛光平整度的CMP抛光垫及其制备工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118893568B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-05-30发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411188364.7，技术领域涉及：B24B37/26；该发明授权一种提高抛光平整度的CMP抛光垫及其制备工艺是由李加海;杨惠明;李元祥设计研发完成，并于2024-08-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种提高抛光平整度的CMP抛光垫及其制备工艺在说明书摘要公布了：本发明公开了一种提高抛光平整度的CMP抛光垫及其制备工艺，属于CMP抛光技术领域。一种提高抛光平整度的CMP抛光垫，包括硬质抛光层和软质抛光层，所述硬质抛光层与软质抛光层之间设置有多个内垫环撑，内垫环撑在软质抛光层表面采用环形阵列分布，软质抛光层可以在上方硬质抛光层受到压力影响时进行收缩辅助。为解决现有的CMP抛光在抛光的同时物体以及抛光垫表面因摩擦产生的颗粒物也会混入液体中，一旦液体流速受限导致杂质无法有效排出便会影响后续的表面抛光精度的问题，晶圆与硬质抛光层在摩擦抛光过程中产生的抛光液会进入到导液孔中，最后通过软质抛光层过滤后从底部的排液流槽排出。
本发明授权一种提高抛光平整度的CMP抛光垫及其制备工艺在权利要求书中公布了：1.一种提高抛光平整度的CMP抛光垫，其特征在于，包括硬质抛光层1和软质抛光层2，所述硬质抛光层1与软质抛光层2之间设置有多个内垫环撑3，内垫环撑3在软质抛光层2表面采用环形阵列分布；所述软质抛光层2的外表面设置有塑封面203，塑封面203的外表面设置有多个一体式孔柱202，所述软质抛光层2的内部设置为不规则孔隙结构；所述内垫环撑3的内侧设置有内环孔301，内垫环撑3通过内环孔301安装在孔柱202的外侧，所述内垫环撑3的内部设置有包围囊腔302和中心囊腔304。
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