恭喜ASML荷兰有限公司K·Z·特鲁斯特获国家专利权
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龙图腾网恭喜ASML荷兰有限公司申请的专利用于高数值孔径穿缝源掩模优化的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112823312B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-06-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980066886.0，技术领域涉及：G03F1/70；该发明授权用于高数值孔径穿缝源掩模优化的方法是由K·Z·特鲁斯特;E·范塞滕;段福·史蒂芬·苏设计研发完成，并于2019-10-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于高数值孔径穿缝源掩模优化的方法在说明书摘要公布了：本文描述了一种利用光刻投影设备进行源掩模优化的方法。光刻投影设备包括照射源和被配置为将掩模设计布局成像到衬底上的投影光学器件。该方法包括使用针对照射源、投影光学器件和掩模设计布局的多个可调谐设计变量来确定多变量源掩模优化函数。多变量源掩模优化函数考虑到遍及曝光缝隙中对应于掩模设计布局的不同条纹的不同位置的成像变化，所述不同条纹由曝光设备的同一缝隙位置曝光。该方法包括迭代地调整所述多变量源掩模优化函数中的多个可调谐设计变量，直到满足终止条件。
本发明授权用于高数值孔径穿缝源掩模优化的方法在权利要求书中公布了：1.一种利用光刻投影设备进行源掩模优化的方法，所述光刻投影设备包括照射源和被配置为将掩模设计布局成像到衬底上的投影光学器件，所述方法包括： 利用硬件计算机系统，使用针对所述照射源、所述投影光学器件和所述掩模设计布局的多个可调谐设计变量来确定多变量源掩模优化函数，所述多变量源掩模优化函数描述遍及所述掩模设计布局的缝隙及不同缝隙的多个位置的成像变化；以及利用所述硬件计算机系统迭代地调整所述多变量源掩模优化函数中的所述多个可调谐设计变量，直到满足终止条件。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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