申请/专利权人：HOYA株式会社

申请日：2019-07-29

公开（公告）日：2020-02-11

公开（公告）号：CN110780534A

主分类号：G03F1/72(20120101)

分类号：G03F1/72(20120101);G03F1/32(20120101)

优先权：["20180730 JP 2018-142919"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.06.13#授权;2020.03.06#实质审查的生效;2020.02.11#公开

摘要：提供光掩模、其修正方法、制造方法、显示装置用器件的制造方法。即使在利用相移作用的光掩模中产生缺陷，也能够进行精密的修正。一种光掩模修正方法，对具有在透明基板1上将半透光膜2图案化而形成的转印用图案的光掩模中产生的缺陷20进行修正，包括确定缺陷20的工序；形成修正膜4的修正膜形成工序。半透光部12具有对于曝光光的代表波长的光的透射率Tm％Tm＞25和相移量φm度160≤φm≤200。在修正膜形成工序，按任意的顺序层叠组成彼此不同的第1膜4a和第2膜4b。第1膜4a包含Cr及O，第2膜4b包含Cr、O及C。第1膜不包含C，或包含含量小于第2膜的含量的C，第2膜包含含量小于第1膜的含量的O。

主权项：1.一种光掩模修正方法，对具有转印用图案的光掩模中所产生的缺陷进行修正，所述转印用图案包含在透明基板上将半透光膜图案化而形成的半透光部，其特征在于，所述光掩模修正方法包括如下的工序：确定要实施修正的所述缺陷的工序；以及为了修正所述缺陷，而形成修正膜的修正膜形成工序，所述半透光部具有对于曝光光的代表波长的光的透射率Tm％、和相移量φm度，其中，160≤φm≤200，在所述修正膜形成工序中，按照任意的顺序层叠组成彼此不同的第1膜和第2膜，所述第1膜包含Cr以及O，所述第2膜包含Cr、O以及C，所述第1膜不包含C，或者包含含量小于所述第2膜的含量的C，所述第2膜包含含量小于所述第1膜的含量的O。

全文数据：

权利要求：

百度查询： HOYA株式会社 光掩模、其修正方法、制造方法、显示装置用器件的制造方法

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