申请/专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司

申请日：2014-07-25

公开（公告）日：2020-07-17

公开（公告）号：CN105408796B

主分类号：G02B17/06(20060101)

分类号：G02B17/06(20060101);G21K5/00(20060101);G03F7/20(20060101)

优先权：["20130729 DE 102013214770.8","20140221 DE 102014203190.7","20140509 DE 102014208770.8"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2020.07.17#授权;2016.08.24#实质审查的生效;2016.03.16#公开

摘要：一种适用于将物场4成像于像场8中的投射光学单元7。多个反射镜M1至M8适用于将来自物场4的成像光3引导至像场8。反射镜M1至M8中的至少两个实施为用于成像光3的入射角大于60°的掠入射的反射镜M2、M3；M5、M6，其在成像光3的光束路径中布置为一个直接接着另一个。这导致具有良好校正的可成像场且同时具有高成像光通量的成像光学单元。

主权项：1.一种将物场4成像至像场8中的投射光学单元7；20；21；22；23；24；25；26；27；28；29；30，-包含多个反射镜M1至M8；M1至M6；M1至M7；M1至M9；M1至M11，用于将来自所述物场4的成像光3引导至所述像场8，-其中，所述反射镜M1至M8；M1至M6；M1至M7；M1至M9；M1至M11中的至少两个实施为用于所述成像光3的入射角大于60°的掠入射的反射镜M2、M3；M5、M6；M1、M2；M1、M2、M3；M3、M4；M6、M7；M4、M5；M2至M6；M1至M4；M6至M9，其在所述成像光3的光束路径中布置为一个直接接着另一个，其中所述投射光学单元是遮挡的光学单元。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 卡尔蔡司SMT有限责任公司 将物场成像于像场的投射光学单元以及包含这种投射光学单元的投射曝光设备

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD