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【发明公布】非侵入性物质分析_迪亚蒙泰克股份有限公司_202010757841.2 

申请/专利权人:迪亚蒙泰克股份有限公司

申请日:2015-06-16

公开(公告)日:2020-10-23

公开(公告)号:CN111803037A

主分类号:A61B5/00(20060101)

分类号:A61B5/00(20060101);A61B5/1455(20060101);A61B5/1495(20060101);G01N21/17(20060101);G01N21/552(20140101);G01N21/63(20060101);G01N33/18(20060101);G01N33/28(20060101);G01N33/49(20060101)

优先权:["20140616 DE 102014108424.1"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2020.11.10#实质审查的生效;2020.10.23#公开

摘要:本发明涉及一种用于分析物质100的方法和系统。所述方法包括以下步骤:将光学介质10布置在物质表面上,使得所述光学介质10的表面12的至少一个区域与所述物质表面接触;发射具有激发波长的激发光束,其通过与所述物质表面相接触的所述光学介质10的表面12的区域到所述物质表面;发射测量光束,其通过所述光学介质10到与所述物质表面直接接触的所述光学介质10的表面12的区域,使得所述测量光束和所述激发光束在所述光学介质10和物质表面的界面上重叠,在所述界面处所述测量光束被反射;根据所述激发光束的波长直接或间接地检测反射的测量光束的偏转;以及基于所检测的所述测量光束的偏转,根据所述激发光束的波长来分析所述物质100。

主权项:1.用于分析物质100的方法,其包括以下步骤:-将光学介质10布置在物质表面上,使得所述光学介质10的表面12的至少一部分与所述物质表面相接触;-发射具有激发波长的激发光束,其通过与所述物质表面相接触的所述光学介质10的表面12的区域到所述物质表面上;-发射探测光束,其通过所述光学介质10到与所述物质表面直接接触的所述光学介质10的表面12的区域上,使得所述探测光束和所述激发光束在所述光学介质10和所述物质表面的界面处重叠,在所述界面处所述探测光束被反射;-直接或间接地检测所反射的探测光束的偏转作为所述激发光束的波长的函数;和-基于检测到的所述探测光束的偏转作为所述激发光束的波长的函数来分析物质100。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 迪亚蒙泰克股份有限公司 非侵入性物质分析

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