申请/专利权人：华虹半导体(无锡)有限公司

申请日：2020-10-23

公开（公告）日：2021-01-19

公开（公告）号：CN112239878A

主分类号：C25D7/12(20060101)

分类号：C25D7/12(20060101);C25D5/20(20060101);C25D17/00(20060101);C25D21/04(20060101)

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.02.05#实质审查的生效;2021.01.19#公开

摘要：本申请涉及半导体制造技术领域，具体涉及一种消泡电镀设备，包括：电镀腔，电镀腔的腔口位置处环绕有金属阴极，待镀晶圆能够覆盖在电镀腔的腔口上；电镀液中的离子在选择性扩散膜处具有特定的扩散方向；按照扩散方向设置选择性扩散膜于电镀腔中，位于扩散方向前方的电镀腔部分为扩散前腔，位于扩散方向后方的电镀腔部分为扩散后腔；金属阳极，金属阳极设于扩散前腔中，在金属阳极和金属阴极之间能够形成电场线；电场线平衡膜，电场线平衡膜设于扩散后腔中，用于平衡电场线穿过待镀晶圆的表面；超声震荡装置，包括相连的超声震荡探头和超声波发生器，超声波发生器用于控制超声震荡探头产生震荡超声波；超声震荡探头设于电镀腔中。

主权项：1.一种消泡电镀设备，其特征在于，所述消泡电镀设备包括：电镀腔，所述电镀腔用于容置电镀液；所述电镀腔的腔口位置处环绕有金属阴极，待镀晶圆能够覆盖在所述电镀腔的腔口上；选择性扩散膜，所述电镀液中的离子在所述选择性扩散膜处具有特定的扩散方向；按照所述扩散方向设置所述选择性扩散膜于所述电镀腔中，位于所述选择性扩散膜扩散方向前方的所述电镀腔部分为扩散前腔，位于所述选择性扩散膜扩散方向后方的所述电镀腔部分为扩散后腔；金属阳极，所述金属阳极设于所述扩散前腔中，在所述金属阳极和所述金属阴极之间能够形成电场线；电场线平衡膜，所述电场线平衡膜设于所述扩散后腔中，用于平衡电场线穿过待镀晶圆的表面；超声震荡装置，包括相连的超声震荡探头和超声波发生器，所述超声波发生器用于控制所述超声震荡探头产生震荡超声波；所述超声震荡探头设于所述电镀腔中。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 华虹半导体(无锡)有限公司 消泡电镀设备

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