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【发明公布】超薄玻璃基板制程方法以及显示面板制程方法_恩利克(浙江)显示科技有限公司_202011158629.0 

申请/专利权人:恩利克(浙江)显示科技有限公司

申请日:2020-10-26

公开(公告)日:2021-02-12

公开(公告)号:CN112358193A

主分类号:C03C15/00(20060101)

分类号:C03C15/00(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.12.19#授权;2021.03.05#实质审查的生效;2021.02.12#公开

摘要:本发明提供了超薄玻璃基板制程方法以及显示面板制程方法,超薄玻璃基板制程方法包括:提供一玻璃母材,玻璃母材上预设n个基板区域和围绕基板区域的骨架区域,n大于等于2;在玻璃母材的基板区域的上下表面中的至少一侧形成面板功能层,面板功能层包括TFT背板、有机发光层、触控检测层、指纹识别层、盖板中的一种或组合,在面板功能层背离基板区域的一侧形成刻蚀保护层;至少刻蚀玻璃母材的骨架区域,令基板区域自玻璃母材脱离,并且在基板区域的边沿形成应力消散边缘;去除刻蚀保护层得到独立的玻璃基板。本发明能够自玻璃母材获得玻璃基板的同时,进行多个区域进行功能层的同时加工,能够避免刀轮切割和激光切割对已经成型的功能层的伤害。

主权项:1.一种超薄玻璃基板制程方法,其特征在于,包括以下步骤:S210、提供一玻璃母材1,所述玻璃母材1上预设n个基板区域11和围绕所述基板区域11的骨架区域12,n大于等于2;S220、在所述玻璃母材的所述基板区域11的上下表面中的至少一侧形成面板功能层23,所述面板功能层23包括TFT背板、有机发光层、触控检测层、指纹识别层、盖板中的一种或组合,在所述面板功能层23背离所述基板区域11的一侧形成刻蚀保护层;S230、至少刻蚀所述玻璃母材1的骨架区域12,令所述基板区域11自所述玻璃母材1脱离,并且在所述基板区域11的边沿形成应力消散边缘13;S240、去除所述刻蚀保护层得到独立的所述玻璃基板14。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 恩利克(浙江)显示科技有限公司 超薄玻璃基板制程方法以及显示面板制程方法

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