申请/专利权人：佳能株式会社

申请日：2023-10-17

公开（公告）日：2024-04-23

公开（公告）号：CN117917601A

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20;G03F9/00

优先权：["20221020 JP 2022-168199"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.23#公开

摘要：本公开涉及曝光方法、曝光装置、以及物品的制造方法。一种曝光方法，包括：第1层曝光工序，一边在扫描方向上扫描原版和基板的相对位置一边将原版的图案向基板上的第1层曝光；以及第2层曝光工序，一边在扫描方向上扫描所述相对位置一边将原版的图案向第1层上的第2层曝光，其中，第1层曝光工序包括：第1工序，将原版中的包括图案形成区域、设置于在扫描方向上远离图案形成区域的位置的遮光区域、以及对准标志的第1有效区域转印到基板中的第1拍摄区域；以及第2工序，将包括图案形成区域的一部分和对准标志的一部分的第2有效区域，以与第1拍摄区域中的与遮光区域对应的区域重复的方式，转印到基板中的第2拍摄区域。

主权项：1.一种曝光方法，包括：第1层曝光工序，一边在扫描方向上扫描原版和基板的相对位置一边将所述原版的图案向所述基板上的第1层曝光；以及第2层曝光工序，一边在所述扫描方向上扫描所述相对位置一边将所述原版的图案向所述第1层上的第2层曝光，所述曝光方法的特征在于，所述第1层曝光工序包括：第1工序，将所述原版中的包括图案形成区域、设置于在所述扫描方向上远离所述图案形成区域的位置的遮光区域、以及对准标志的第1有效区域转印到所述基板中的第1拍摄区域；以及第2工序，将包括所述图案形成区域的一部分和所述对准标志的一部分的第2有效区域，以与所述第1拍摄区域中的所述遮光区域对应的区域重复的方式，转印到所述基板中的第2拍摄区域。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 佳能株式会社 曝光方法、曝光装置、以及物品的制造方法

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