申请/专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司

申请日：2023-08-25

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN220795641U

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.16#授权

摘要：本实用新型公开了一种曝光机，包括：曝光装置，所述曝光装置包括：两个曝光组件，两个所述曝光组件沿第一方向相对设置，两个所述曝光组件对料带同步进行双面曝光；传输装置，所述传输装置包括：至少两个第一滚轮，至少两个所述第一滚轮沿高度方向间隔设置且分别位于两个所述曝光组件的上下两侧，以用于输送所述料带在两个所述曝光组件之间沿高度方向运动。其中，料带在两个曝光组件之间沿高度方向运动，避免料带悬空因重力变形，导致曝光组件离焦；两个曝光组件对料带在第一方向的两个侧面进行双面同步曝光。

主权项：1.一种曝光机，其特征在于，包括：曝光装置，所述曝光装置包括：两个曝光组件10，两个所述曝光组件10沿第一方向相对设置，两个所述曝光组件10对料带30同步进行双面曝光；传输装置，所述传输装置包括：至少两个第一滚轮23，至少两个所述第一滚轮23沿高度方向间隔设置且分别位于两个所述曝光组件10的上下两侧，以用于输送所述料带30在两个所述曝光组件10之间沿高度方向运动。

全文数据：

权利要求：

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