申请/专利权人：深圳市欣光辉科技有限公司

申请日：2023-09-18

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN220795643U

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.16#授权

摘要：本实用新型公开了一种曝光机的遮光结构，包括曝光机本体，所述曝光机本体的前端固定连接有曝光室，所述曝光机本体的前端设置有遮光单元；所述遮光单元包括固定连接在曝光机本体前端的多个安装板，所述安装板的一侧固定连接有竖杆，所述竖杆的表面套设有电磁铁、磁板、滑套和拉簧，且电磁铁与安装板固定连接，所述磁板和滑套固定连接。本实用新型通过电磁铁磁力的影响，使得磁板带动滑套、安装杆和遮光板向下移动，直至将曝光室内部的紫外光完全遮挡后，即可避免了曝光机本体在使用时，曝光室内部的紫外光出现照射在人体表面，从而导致对身体健康造成损害的现象，继而提高了防护性。

主权项：1.一种曝光机的遮光结构，包括曝光机本体1，其特征在于：所述曝光机本体1的前端固定连接有曝光室2，所述曝光机本体1的前端设置有遮光单元3；所述遮光单元3包括固定连接在曝光机本体1前端的多个安装板31，所述安装板31的一侧固定连接有竖杆32，所述竖杆32的表面套设有电磁铁33、磁板34、滑套35和拉簧36，且电磁铁33与安装板31固定连接，所述磁板34和滑套35固定连接，所述拉簧36的两端分别与安装板31和滑套35固定连接，所述滑套35的表面固定连接有安装杆37，所述安装杆37的一端固定连接有遮光板38，所述曝光室2的一侧固定连接有蓄电池39。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 深圳市欣光辉科技有限公司 一种曝光机的遮光结构

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