申请/专利权人：佳能株式会社

申请日：2020-07-21

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN114365045B

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：["20190903 JP 2019-160664"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.26#授权;2022.05.03#实质审查的生效;2022.04.15#公开

摘要：为了有利地抑制被照射表面上的光强度分布的重心光线的偏离等，扫描曝光装置的照明光学系统具有：第一遮光单元，包括第一和第二遮光构件，其包括在扫描方向上互相面对的端部，其间在扫描方向上的相对距离可变；第二遮光单元，包括第三和第四遮光构件，其包括在扫描方向上互相面对的端部，其间在扫描方向上的相对距离可变，第一和第二遮光单元分别布置在朝光源侧和朝被照射表面侧离开被照射表面的共轭平面的位置处，在垂直于扫描方向的方向上共轭平面中的预定位置，第一和第二遮光构件互相面对的端部的中点与包括照明光学系统的光轴且与扫描方向垂直的平面之间的第一距离与上述平面与第三和第四遮光构件互相面对的端部的中点之间的第二距离一致。

主权项：1.一种在使原版和基板沿扫描方向移动的同时对所述基板进行曝光的曝光装置，所述曝光装置包括：照明光学系统，所述照明光学系统构造成利用来自光源的光照射原版的待照射表面，其中，所述照明光学系统包括：第一遮光单元，所述第一遮光单元包括第一遮光构件和第二遮光构件并且布置在朝向光源侧远离所述待照射表面的共轭平面的位置处，所述第一遮光构件和所述第二遮光构件包括在与所述共轭平面中等同于扫描方向的等同方向上面向彼此的端部，并且其中，所述第一遮光构件和所述第二遮光构件之间在所述等同方向上的相对距离可以改变，以及第二遮光单元，所述第二遮光单元包括第三遮光构件和第四遮光构件并且布置在朝向待照射表面侧远离所述共轭平面的位置处，所述第三遮光构件和所述第四遮光构件包括在所述等同方向上面向彼此的端部，并且其中，所述第三遮光构件和所述第四遮光构件之间在所述等同方向上的相对距离可以改变，并且其中所述第一遮光单元和所述第二遮光单元布置成使得在所述共轭平面中与所述等同方向正交的方向上的预定位置处，所述第一遮光构件的所述端部和所述第三遮光构件的所述端部相对于包括所述照明光学系统的光轴并且与所述等同方向正交的平面存在于同一侧，从所述平面到所述第一遮光构件的所述端部和到所述第三遮光构件的所述端部的距离彼此不同，面向彼此的所述第一遮光构件的所述端部和所述第二遮光构件的所述端部之间的中点以及面向彼此的所述第三遮光构件的所述端部和所述第四遮光构件的所述端部之间的中点相对于所述平面存在于同一侧并且位于远离所述平面的位置处，从所述平面到面向彼此的所述第一遮光构件的所述端部和所述第二遮光构件的所述端部之间的中点的距离与从所述平面到面向彼此的所述第三遮光构件的所述端部和所述第四遮光构件的所述端部之间的中点的距离一致。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 佳能株式会社 曝光装置和制造物品的方法

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