申请/专利权人：三星显示有限公司

申请日：2019-09-27

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN110989298B

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：["20181002 KR 10-2018-0117729"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.16#授权;2021.10.08#实质审查的生效;2020.04.10#公开

摘要：本申请涉及曝光方法和制造显示装置的方法。用于步进式移动矩形掩模和衬底的相对位置的曝光方法包括：第一投影曝光，其中，掩模位于衬底的第一区域上，检测掩模的一侧上的两个点的坐标，使用该坐标对齐掩模，并随后曝光第一投影部；第二投影曝光，其中，掩模位于衬底的第二区域上，检测掩模的一侧上的两个点的坐标，使用该坐标对齐掩模，并随后曝光第二投影部；以及第三投影曝光，其中，掩模位于衬底的第三区域上，检测掩模的一侧上的两个点的坐标，使用该坐标对齐掩模，并随后曝光第三投影部。

主权项：1.一种曝光方法，用于步进式移动矩形掩模和被划分成多个区域的衬底的相对位置并将所述区域中的每一个暴露于投影，所述曝光方法包括：第一投影曝光，其中，所述掩模位于所述衬底的所述多个区域中的第一区域上，检测所述掩模的一侧上的两个点的第一坐标，使用所述第一坐标对齐所述掩模，并随后曝光第一投影部；第二投影曝光，其中，所述掩模位于所述衬底的所述多个区域中的第二区域上，检测所述掩模的、与所述第一区域相邻的一侧上的两个点的第二坐标，使用所述第二坐标对齐所述掩模，并随后曝光第二投影部；以及第三投影曝光，其中，所述掩模位于所述衬底的所述多个区域中的第三区域上，检测所述掩模的、与已经曝光的相邻投影区域相邻的一侧上的两个点的第三坐标，使用所述第三坐标对齐所述掩模，并随后曝光第三投影部，其中，在所述第一投影曝光中，当所述掩模位于对齐偏移范围内时，认为对齐完成，并随后曝光所述第一投影部，以及在所述第二投影曝光中，使用差异量对齐所述掩模，所述差异量是与对齐目标坐标的偏移，其中，在所述第二投影曝光中，所述掩模的对齐目标坐标X②、Y②、θ②通过以下等式计算：X②＝ΔX①-X②3+X②42+ΔX②sY②＝ΔY①-Y②3+Y②42+ΔY②sθ②＝Δθ①-θ②3+θ②42其中，ΔX①、ΔY①、Δθ①是在曝光所述第一投影部时所述掩模的实际位置与所述对齐偏移范围内的所述对齐目标坐标之间的差异量，X②3、Y②3、θ②3和X②4、Y②4、θ②4是在所述第二投影曝光中检测到的所述两个点的坐标，并且滑动量ΔX②s、ΔY②s通过以下等式计算： ΔY②s＝ΔY②a-Y②3+Y②42ΔX②s＝ΔY②s·[X①1-X①2Y①1-Y①2]其中，“a”是权重值并且被设定为0与1之间的值，并且X①1、Y①1、θ①1和X①2、Y①2、θ①2是在所述第一投影曝光中检测到的所述两个点的所述坐标。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 三星显示有限公司 曝光方法及使用该曝光方法制造显示装置的方法

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