申请/专利权人：栗田工业株式会社

申请日：2020-01-30

公开（公告）日：2022-09-23

公开（公告）号：CN115103930A

主分类号：C23F11/14

分类号：C23F11/14;C10G7/10;C10G75/02;C23F11/12

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.03.21#实质审查的生效;2022.09.23#公开

摘要：本发明涉及减少或防止在用于进行化学工艺的装置中的腐蚀或结垢的方法，其中腐蚀或结垢是由在化学工艺中存在的酸性化合物所引起，此方法包括向进行化学工艺的装置添加至少一种式I氢氧化季铵，其中R1、R2、R3各自独立地是C1‑C10烷基；R4特别是C1‑C18烷基，苄基，具有5、6、7或8个碳原子的单环烷基，具有6‑8个碳原子的双环烷基，具有7‑10个碳原子的三环烷基，其中所述单环烷基、双环烷基和三环烷基是未取代的或被1或2个甲基取代，或是三‑C1‑C4烷基铵基团。R1和R2也可以与氮原子一起形成5或6元的饱和氮杂环，其是未取代的或带有1或2个甲基；和或R3和R4也可以与氮原子一起形成5或6元的饱和氮杂环，其是未取代的或带有1或2个甲基。

主权项：1.一种减少或防止在用于进行化学工艺的装置中的腐蚀或结垢的方法，其中腐蚀或结垢是由在化学工艺中存在的酸性化合物所引起，此方法包括向进行化学工艺的装置添加至少一种式I所示的氢氧化季铵：[化学式1] 其中R1、R2、R3各自独立地是C1-C10烷基；R4是选自C1-C18烷基，苄基，具有5、6、7或8个碳原子的单环烷基，具有6-8个碳原子的双环烷基，具有7-10个碳原子的三环烷基，其中所述单环烷基、双环烷基和三环烷基是未取代的或被1或2个甲基取代，以及下式R4a和R4b的基团：[化学式2] 其中A是C2-C8烷二基；A’是C2-C8烷二基；和R11、R12、R13、R21、R22各自独立地是C1-C4烷基；R1和R2也可以与氮原子一起形成5或6元的饱和氮杂环，其是未取代的或带有1或2个甲基；R3和R4也可以与氮原子一起形成5或6元的饱和氮杂环，其是未取代的或带有1或2个甲基。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 栗田工业株式会社 减少或防止由酸性化合物引起的腐蚀或结垢的方法

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