申请/专利权人：唐山斯腾光电科技有限公司

申请日：2022-12-27

公开（公告）日：2023-05-19

公开（公告）号：CN219043519U

主分类号：B08B3/12

分类号：B08B3/12;B08B3/04;B08B1/04;B08B13/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.05.19#授权

摘要：本实用新型涉及清洗设备技术领域，提出了一种陶瓷片抛离后基片清洗设备，包括机架，设置在机架上的移动组件和超声区，支撑架可拆卸设置在超声区内，支撑架上具有若干通孔，通孔为锥形，通孔用于放置待清洗的基片，浸泡区和擦拭区设置在机架上；超声区、浸泡区和擦拭区依次排列在机架上；清洗组件设置在机架上，清洗组件位于超声区旁，清洗组件用于伸入超声区内清洗基片，擦拭件具有若干个，若干擦拭件分别设置在移动组件上和擦拭区内。通过上述技术方案，解决了现有技术中的基片清洗效率低的问题。

主权项：1.一种陶瓷片抛离后基片清洗设备，其特征在于，包括机架1；移动组件2，设置在所述机架1上；超声区3，设置在所述机架1上；支撑架4，可拆卸设置在所述超声区3内，所述支撑架4上具有若干通孔5，所述通孔5为锥形，所述通孔5用于放置待清洗的基片；浸泡区6，设置在所述机架1上；擦拭区7，设置在所述机架1上，所述超声区3、所述浸泡区6和所述擦拭区7依次排列在所述机架1上；清洗组件8，设置在所述机架1上，所述清洗组件8位于所述超声区3旁，所述清洗组件8用于伸入所述超声区3内清洗基片；擦拭件9，具有若干个，若干所述擦拭件9分别设置在所述移动组件2上和所述擦拭区7内。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 唐山斯腾光电科技有限公司 一种陶瓷片抛离后基片清洗设备

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