申请/专利权人：苏州长光华芯光电技术股份有限公司;苏州长光华芯半导体激光创新研究院有限公司

申请日：2023-04-24

公开（公告）日：2023-05-23

公开（公告）号：CN116149070A

主分类号：G02B27/09

分类号：G02B27/09;G02B27/30

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.07.25#授权;2023.06.09#实质审查的生效;2023.05.23#公开

摘要：本发明提供一种匀化光斑输出系统，包括：半导体发光结构，所述半导体发光结构适于输出第一光；特征光纤，所述特征光纤包括纤芯，所述纤芯在垂直于纤芯的长度方向的横截面的外轮廓包括第一直线和与第一直线连接的第二线单元；所述特征光纤用于将半导体发光结构输出的第一光激发为纤芯内部的第二光，所述第二光的模式数目大于第一光的模式数目；近场成像透镜，所述近场成像透镜适于将特征光纤背离半导体发光结构一侧端面的光斑成像在所述近场成像透镜背离所述特征光纤的一侧。所述匀化光斑输出系统对光束的均化效果好且匀化光斑输出系统的尺寸小。

主权项：1.一种匀化光斑输出系统，其特征在于，包括：半导体发光结构，所述半导体发光结构适于输出第一光；特征光纤，所述特征光纤包括纤芯，所述纤芯在垂直于纤芯的长度方向的横截面的外轮廓包括第一直线和与第一直线连接的第二线单元；所述特征光纤用于将半导体发光结构输出的第一光激发为纤芯内部的第二光，所述第二光的模式数目大于第一光的模式数目；近场成像透镜，所述近场成像透镜适于将特征光纤背离半导体发光结构一侧端面的光斑成像在所述近场成像透镜背离所述特征光纤的一侧。

全文数据：

权利要求：

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