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【发明授权】一种仿Nafion主侧链化学结构阴离子交换膜的制备方法_武汉理工大学_202210060242.4 

申请/专利权人:武汉理工大学

申请日:2022-01-19

公开(公告)日:2023-05-30

公开(公告)号:CN114395111B

主分类号:C08G61/02

分类号:C08G61/02;C08J5/22;C08L65/00;H01M8/1072

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.05.30#授权;2022.05.13#实质审查的生效;2022.04.26#公开

摘要:本发明公开了一种仿Nafion主侧链化学结构阴离子交换膜的制备方法,首先合成全氟聚二联苯亚烷高分子聚合物以及带有多烷基醚键长链的羟基哌啶季铵盐白色固体;然后将NaH和四丁基溴化铵TBAB溶于DMSO中,N2气氛下,滴加所述羟基哌啶季铵盐的二甲基亚砜溶液,50‑60℃条件下反应2‑3h,随后滴加所述全氟聚二联苯亚烷高分子聚合物的二甲基亚砜溶液,50‑60℃反应6‑10h,用乙醇沉淀并洗涤数次,干燥后得到目标树脂,采用极性溶剂溶解后倒入聚四氟乙烯模盘中,干燥成膜得到全氟聚二联苯亚烷键接多烷基醚键侧链哌啶季铵盐阴离子交换膜。

主权项:1.一种仿Nafion主侧链化学结构阴离子交换膜的制备方法,其特征在于包括以下步骤:(1)反应器中加入联苯、溴五氟丙酮、六氟丙酮以及溶剂,搅拌溶解混合均匀;在N2气氛下加入三氟甲磺酸稀土盐,缓慢滴加三氟甲磺酸(TSFA),控制反应温度在0℃-10℃,缩聚反应8-24h停止反应;加入甲醇沉淀后的产物用蒸馏水反复洗涤得白色块状固体,干燥后得到全氟聚二联苯亚烷高分子聚合物;所述联苯为4H,4’H-八氟联苯;(2)将4-乙醇哌啶、CH3I和K2CO3溶解于二甲基亚砜(DMSO),36-41℃下反应24-48h,加入乙醚沉淀洗涤数次,干燥后得到4-乙醇-N-二甲基哌啶季铵盐(OH-DMP);将NaH和四丁基溴化铵(TBAB)溶于DMSO中,N2气氛下缓慢滴加所得OH-DMP的溶液,50-60℃条件下反应2-3h;继续滴加2-氯-1-丙醇,50-60℃反应6-10h,用丙酮沉淀并洗涤数次,干燥后得到带有多烷基醚键长链的羟基哌啶季铵盐白色固体;(3)将NaH和四丁基溴化铵(TBAB)溶于DMSO中,N2气氛下,滴加所述羟基哌啶季铵盐的二甲基亚砜溶液,50-60℃条件下反应2-3h,随后滴加所述全氟聚二联苯亚烷高分子聚合物的二甲基亚砜溶液,50-60℃反应6-10h,用乙醇沉淀并洗涤数次,干燥后得到全氟聚二联苯亚烷键接多烷基醚键侧链哌啶季铵盐树脂,采用极性溶剂溶解后倒入聚四氟乙烯模盘中,干燥成膜得到全氟聚二联苯亚烷键接多烷基醚键侧链哌啶季铵盐阴离子交换膜。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 武汉理工大学 一种仿Nafion主侧链化学结构阴离子交换膜的制备方法

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